联测SIN-RD701缆/杆式雷达物位计是适用于液体及固体粉状。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD702四氟密封雷达液位计，适用于强腐蚀性的液体。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD703雷达料位计，适用于水泥仓粉料。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD704雷达液位计，适用于无离子水、脱氧水等液体。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD705雷达液位计_适用于密封罐，高温高压液体。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD803T雷达物位计_适用于带有腐蚀性及挥发性的液体。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测_SIN-RD901雷达液位计_适用于各种腐蚀的液体。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测_SIN-RD902雷达液位计_适用于高温高压的液体。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD903雷达料位计适用于固体料，结露。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD904雷达料位计，适用于强粉尘、易结晶 。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD905雷达料位计，适用于固体颗粒、粉料。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD906雷达液位计，适用于卫生型液体存储容器。雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

联测SIN-RD908雷达液位计0-30米水位，雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。

雷达液位计天线发射及窄的微波脉冲，这个脉冲以光速在空间传播，遇到被测介质表面，其部分能量被反射回来，被同一天线接收。发射脉冲与接收脉冲的时间间隔与天线到被测介质表面的距离成正比，多用于水位、料位与化工场合。